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ASML柏林工厂火灾 恐冲击EUV组件供应！
ASML德国柏林工厂近日发生火灾，据了解，占地 32,000 平方公尺的柏林厂区，约 200 平方公尺厂区受火灾影响！
ASML发言人于1月4日称，厂区受到火灾损伤的区域仍然处于关闭状态。
该工厂主要制造光刻机光学零组件，如晶圆台、光罩吸盘和反射镜，固定光罩的光罩吸盘处于紧缺状态。零组件以供应 EUV 机台较多，且以晶圆代工需求占多数。若因火灾使零组件交期延后，不排除ASML将优先分配主要产出支持晶圆代工订单的可能性。
据悉，EUV主要使用7nm以下先进制程制造。全球仅台积电与三星使用此设备制造，台积电7nm、5nm、3nm制程，三星南韩华城EUV Line（7nm、5nm及4nm）及3nm GAA制程等。不过受全球晶圆代工产能紧缺、各厂积极扩厂等因素影响，半导体设备交期也越拉越长。
DRAM方面，目前三星及SK海力士已用于1Z nm及1alpha nm制程，美系厂商美光预计2024年导入EUV于1gamma 纳米制程。据分析机构TrendForce目前掌握，ASML EUV设备交期落在12~18个月，也因设备交期较长，ASML或在设备组装时间等待工厂损失的零组件重新制造。
尽管ASML努力淡化火灾影响，但分析师警告称，ASML德国柏林厂这起意外，可能拉长全球芯片短缺的持续时间。有外媒报道称，ASML柏林厂生产微影设备的关键零组件，若该公司出货量因为这起意外减少10%，可能导致全球光刻机的供应减少约8.4%。分析师Matthew Bryson评论称，大火可能至少在短期内限制ASML产量，从而阻碍计划中的代工生产。